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反射光谱薄膜测厚仪

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MProbe Vis薄膜测厚仪


参考价格:15-20万

MProbe Vis薄膜测厚仪大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

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大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被MProbe Vis测厚仪测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)。


测量范围: 15 nm -50um

波长范围: 400 nm -1100 nm


MProbe Vis薄膜测厚仪适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等。


测量指标:薄膜厚度,光学常数

界面友好强大: 一键式测量和分析。

MProbe Vis薄膜测厚仪实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。

 MProbe Vis薄膜测厚仪

(MProble NIR薄膜测厚仪系统示)


性能参数:

     精度 <0.01nm or 0.01%
    准确度 <0.2% or 1 nm
    稳定性 <0.02nm or 0.03%
    光斑直径 标准3mm, 可以小至3um
    样品大小 大于1 mm


 案例1,300nm二氧化硅薄膜的测量:

MProbe Vis薄膜测厚仪


硅晶圆反射率,测量时间10ms:

MProbe Vis薄膜测厚仪


案例2,测量500nm氮化铝,测量参数:厚度和表面粗糙度

MProbe Vis薄膜测厚仪


技术参数:

   测量范围 15nm-50um
   精度 <0.01nm or 0.01%
   准确度 <0.2% or 1 nm
   稳定性 <0.02nm or 0.03%
   波长范围 400-1100nm
   光谱仪和检测器 F4光谱仪,3600像素CCD检测器,16位深
   光谱分辨率 小于2nm(标准),可选1nm
   光源 5W卤钨灯,色温2800,寿命:10000小时
   反射探头 光导光纤(7个纤芯),纤芯400um


可选硬件模块
  FLVis 消色差聚焦透镜,工作距离:35mm,光斑直径:小于0.5mm
  FDHolder 面向下面样品适配器,用于透明样品
  TO 透射率测量模块
  TO Switch 2个通道转换器,用于反射率和透射率测量
  20W 20W卤钨灯(色温3100,寿命2000小时)
  TR 5V TTL外触发模块,1个外部in触发,启动测量,6路out触发
  LP500 长通滤光片,过滤500nm以下光谱,用于光刻胶,其他波长可选


可选软件模块
MOD 远程控制(TCP),基于Modbus协议
CM 动态测量模块,设定时间间隔,用于在线测量
 


我们乐意为您进行免费样品测量,欢迎来电咨询。


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全国咨询热线:400-992-5592
 


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