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反射光谱薄膜测厚仪

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MProbe RT薄膜测厚仪


参考价格:15-20万

大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

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薄膜测厚


该机大部分透光或弱吸收的薄膜均可以快速且稳定的被测量。比如:氧化物,氮化物,光刻胶,高分子聚合物,半导体(硅,单晶硅,多晶硅),半导体化合物(AlGaAs, InGaAs,CdTe, CIGS),硬涂层(碳化硅,类金刚石炭),聚合物涂层(聚对二甲苯,聚甲基丙烯酸甲酯,聚酰胺)

测量范围: 1 nm -20um(UVVis),1nm-150um(UVVisNIR)

波长范围: 200 nm -1000 nm(UVVis)

200nm-1700nm(UVVisNIR)

适用于实时在线测量,多层测量,非均匀涂层, 软件包含大量材料库(超过500材料),新材料可以很容易的添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等;


蓝宝石基底上1025nm厚度的氧化物薄膜的反射率和透射率,波长范围(200-1700nm)

MProbe RT薄膜测厚仪


系统性能参数:

          精度 <0.1nm or 0.01%
         准确度 <0.2% or 1 nm
         稳定性 <0.05nm or 0.03%
         光斑直径 标准2mm, 可以小至3um
         样品大小 大于1 mm


测量指标:薄膜厚度,光学常数

界面友好强大: 一键式测量和分析。

实用的工具:曲线拟合和灵敏度分析,背景和变形校正,连接层和材料,多样品测量,动态测量和产线批量处理。


技术参数:

测量范围 1nm-50um 或1nm-150um
精度 <0.1nm or 0.01%
准确度 <0.2% or 1 nm
稳定性 <0.05nm or 0.03%
波长范围 200-1000nm 或 200-1700nm
光谱仪和检测器 F4光谱仪,3600像素CCD检测器,16位深
F3光谱仪,512像素InGaAs 检测器
光谱分辨率 2nm(UVVis),4nm(NIR)
光源 20W卤钨灯(添加氙),色温3100,寿命:2000小时


MProbe RT薄膜测厚仪

(内部结构示意图)


我们乐意为您进行免费样品测量,欢迎来电咨询。


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